【7月12日訊】相信大家都知道，我國科技產業在晶片、作業系統這兩大核心技術領域，一直都沒能夠取得太大技術突破，所以我國科技企業一直都不可避免地遭受到「卡脖子」威脅，其中荷
2021-07-13 03:02:59
央視正式確認!又一關鍵晶片製造裝置迎來突破:事關EUV光刻機
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【7月12日訊】相信大家都知道，我國科技產業在晶片、作業系統這兩大核心技術領域，一直都沒能夠取得太大技術突破，所以我國科技企業一直都不可避免地遭受到「卡脖子」威脅，其中荷蘭光刻機巨頭—ASML公司，更是放下狠話，即便ASML公司對外公開EUV光刻機設計圖紙，中國也無法進行「山寨」，確實EUV光刻機有著人類工業史上的"皇冠"美譽，內部零部件就高達數十萬顆，來自於全球5000多家頂級供應商，才讓荷蘭ASML公司能夠製造出完整的EUV光刻機，所以僅僅憑藉一個國家的力量，確實也是很難將所有的核心技術掌握在自己手中，但即便如此，我國依舊也在不斷攻克光刻機各項技術節點，不斷地積累光刻機的核心技術，其中我國的光刻機制造巨頭—上海微電子更是肩負起國產光刻機制造的重任，而華卓精科、科益虹源等企業也為上海微電子提供雙工件臺、鐳射技術等；根據相關人士透露，我國首臺28nm浸潤式國產光刻機即將在今年量產下線。
而就在近日，央視官方再次傳來了好訊息，那就是我國首臺高能光源進入到了裝置安裝階段。這項光源技術由中科院高能物理研究所參與研究，可以實現實現了高能同步輻射光源裝置的安裝運用，而這種SSMB光源有望解決光刻機光源核心技術難題，也是目前全球亮度最高的第四代同步輻射光源之一；
根據官方資訊確認，這一光源技術已經實現了全國產化，未來還可以廣泛應用到各種場景之中，其中就包含了光刻機裝置，要知道EUV光刻機最核心的技術就是EUV光源，而如今清華大學所研發的穩態微聚束（SSMB）也有希望解決未來國產EUV光刻機的光源技術，對國產光刻機不僅僅可以解決光源問題，同時也可以避免國外依賴，取得更大的行業話語權，意義非常重大。
不僅僅在光源技術方面取得重大突破，央視方面還確認，又一事關EUV光刻機的關鍵裝置迎來突破，它就是中國電科所研發的離子注入機，目前也也取得了重大技術突破，即便面對再大的困難，我們依舊沒有放棄自主研發，相信我們的國產光刻機也一定可以打破先進技術壁壘，迎來逆襲崛起的新時代。
最後：對於我國光刻機技術不斷確定重大技術突破一事，各位小夥伴們，你們覺得我們的國產光刻機是否有機會後來居上，成功實現逆襲反超，讓「缺芯少魂」時代徹底成為歷史呢？歡迎在評論區中留言討論，期待你們的精彩評論！
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