3nm晶片戰打響，中芯國際停留在14nm，中國專家卻說55nm更關鍵

2021-06-01 18:24:20

近兩年，三星電子、臺積電兩大晶圓代工巨頭在3nm工藝節點上展開激烈競爭。

目前，就連英特爾和IBM似乎也具備了參與進3nm晶片戰的技術實力。總而言之，3nm工藝節點所迎來的又是一番腥風血雨。

而在幾大巨頭打響3nm晶片戰的同時，中芯國際仍然停留在14nm。並非是中芯國際不想研發高精度工藝製程，而是缺少目前繞不開的關鍵裝置——EUV光刻機。

不過，對於中國晶片製造業目前的現狀，中國專家卻說55nm更關鍵。

中國科學院院士吳漢明曾多次在公開場合指出：依賴西方技術建立一條7nm生產線，倒不如打造完全國產化的成熟的55nm工藝。

那麼，為什麼在一眾企業紛紛追求高精度工藝時，吳漢明院士會有這樣的看法？在筆者看來，這主要有兩方面原因。

一方面，本土化55nm產業鏈建設是利益最大化的方案之一。

首先，隨著工藝製程的微縮，晶片研發和製造難度和成本會不斷增大。半導體又是一個投資週期非常長的領域，很少有企業能夠拿出充足的資金用於長期、高額的研發投入。

尤其是在目前多個環節的核心技術被海外壟斷的情況下，中國企業研發高精度工藝，不如專心打造成熟工藝的本土化產業鏈。

其次，2020年下半年爆發的缺芯潮一直延續到如今，全球市場中最緊缺的不是高精度晶片，而是28nm及以上成熟工藝的晶片。

在市場需求激增的情況下，中國如果能夠盡力擴充產能，並趁機完善產業鏈，那麼將受益無窮。

另一方面，高精度工藝研發之路上的壁壘太多、太堅固。

除了成本之外，智慧財產權上的侷限性，也是中國晶片企業需要重點考慮的問題。拋開其他核心材料或者技術不談，單單是一個EUV光刻機，中國就很難徹底攻關成功。

要知道，EUV光刻機所需的極紫外光源，更是美國用舉國之力歷經很長時間才研製成功。而且，一臺EUV光刻機中的零部件數量多達10多萬，由全球5000多家供應商供應。

對此，吳漢明院士也表示，EUV光刻機是全球技術整合做起來的頂級裝置，讓一個國家或者一個地區自研EUV光刻機並不現實。

所以，筆者認為，我國應該在繼續攻關EUV光刻機的同時，也要重點抓一下本土化成熟工藝產業鏈的建設。

從產業鏈底層出發，穩紮穩打到每一個相關行業，才有可能打破封鎖。

文/諦林稽核/子揚校正/知秋