事關國產光刻機，兩位專家發表了不同看法，距離ASML差距有多大？

文/祕數

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「晶片禁令」的實施切斷了華為集團的晶片來源，讓人們意識到晶片產業鏈的重要作用，尤其是國產光刻機。光刻機被人們稱之為工業皇冠上的明珠，是世界上所有最高技術的結晶，同時也是晶片製造不可或缺的重要工具。

然而，我國的光刻機較為落後，難以研製出先進的光刻機。如今，上海微電子只能製造90nm的低端光刻機。與此不相上下的是，日本的佳能和尼康也只能製造低端光刻機，而荷蘭ASML公司可以製造EUV高階光刻機和DUV中端光刻機。關於國產光刻機，兩位專家提出的看法與眾不同，究竟誰是誰非引起了人們的爭議，距離ASML差距有多大？

美國限制ASML公司，國產鐳射技術位於全球一流。值得一提的是，即使無法制造光刻機的美國在半導體市場上佔據了許多份額，而且可以操控全球最大的光刻機企業——荷蘭ASML公司。之所以出現這種局面，不僅是因為美國可以通過資本控制荷蘭ASML公司，而且美國掌握了高階鐳射光源的技術。

實際上，我國參與光刻機技術的研發時間不是很晚，當時甚至位於全球第一梯隊。在20世紀70年代初，知名大學精密儀表系推出了「鐳射干涉定位自動分步重複照相機」，當時的荷蘭ASML公司還沒有出現在大眾面前。

當日本企業正在研究膠捲技術時，我國的鐳射技術已經處於全球一流水平。令人惋惜的是，「造不如買」的思潮使國產光刻機失去了發展的機會。即便如此，國產企業依然沒有放棄，而是堅定不移的朝著目標前進。如今，上海微電子已經積累了2400項以上的專利技術，在國內中高階封裝光刻機和LED光刻機市場上佔據了80%的份額。不過，上海微電子在晶片製造過程中使用的IC前道光刻機領域與荷蘭ASML公司存在巨大的差距，上海微電子目前只能達到90nm。

關於國產光刻機的現狀，兩位專家發表了看法。如果荷蘭ASML公司無法自由出貨，國產企業想要研製7nm以下的先進晶片工藝，那就需要自主研發一臺先進的EUV光刻機。關於國產光刻機的現狀，北大教授林毅夫發表了自己的看法。林毅夫教授認為荷蘭ASML公司如果沒有把光刻機賣給國產企業，我國大約三年就可以全盤掌握這項技術。一旦國產企業掌握了這項技術，那麼光刻機的製造成本就會低於國外企業，那個時候的荷蘭ASML只能黯然退場。不過，另外一位專家的看法卻引起了人們的爭議，許多網友認為這位專家是在打擊國產光刻機的信心。

曾經任職中芯國際的技術研發副總裁，目前是工程院院士、微電子工藝技術專家的吳漢明在一次會議上表示：一臺高階EUV光刻機在市場上的售價已經超過了1億元，這款光刻機內部涵蓋的零部件超過了10萬種，需要全球各地超過500家供應商的技術支援，而且是全球化的技術結晶。因此，讓一個國家或者一個地區獨自制造一臺高階光刻機是一件難以實現的事情。不可否認的是，吳漢明院士的說法確實存在一定的道理，畢竟EUV光刻機的製造難度是業界公認的。

研發光刻機需要多國的技術，製造國產光刻機迫在眉睫。值得一提的是，一臺EUV高階光刻機的重量達到了180噸，需要通過40個集裝箱進行運輸，只是安裝調控光刻機就需要花費一年的時間。

不僅如此，一臺EUV光刻機的製造需要集結多個國家的頂尖技術，美國的光源技術佔據了27%，德國的光學系統佔據了14%，日本研製的材料佔據了27%，荷蘭的腔體和英國真空佔據了32%。儘管EUV光刻機的製造十分複雜，但是根據當前的發展情況進行分析，我國只能自主研發EUV光刻機，因為國產企業難以從荷蘭ASML公司進口EUV光刻機。加上吳漢明院士認為一個國家或一個地區獨自制造高階光刻機是不現實的，所以引起了人們的爭議。

根據當下的發展情況進行分析，國產企業在短時間內難以突破EUV光刻機的技術，但是自主研發EUV光刻機是一件很現實的事情。因為我國已經在EUV光刻機市場上進行佈局，並且在許多方面取得顯著的進展。隨著技術的創新與完善，實現國產EUV光刻機的替代指日可待。對於兩位專家的看法，你有什麼獨到的見解嗎？