被荷蘭ASML擊敗，日本光刻機巨頭衰落，年虧20億走向沒落

2021-06-09 18:04:21

曾經的光刻機巨頭——日本尼康，在被荷蘭ASML擊敗後迅速走向衰落。

根據媒體報道，受新冠影響，尼康相機事業陷入虧損。財報顯示，在2020財季公司淨虧損達20億，創下新高。

而提及微影裝置，難免令人聯想到尼康的光刻機。

公開資料顯示，在上世紀80年代，全球光刻機制造領域一度是日本企業的天下，這其中就包括尼康。彼時，尼康與GCA各享30%的市場份額。

不過，這種局面並沒有維持太久，隨著IBM、AMD、英特爾等客戶轉向尼康，尼康市場份額迅速飆升至50%，在光刻機制造領域獨自為王。

1984年，ASML在荷蘭誕生，但這並未對尼康產生太大影響。

根據資料統計，在2000年之前，ASML在光刻機制造行業所佔份額不足10%，而尼康在市場上一手遮天。彼時，誰能想到尼康有一天會被ASML擊敗。

2020年，尼康共賣出33臺光刻機，在市場上佔比僅剩8%，反觀ASML，出貨量達到258臺，佔比達到62%。

那麼，昔日光刻機霸主尼康，是如何走向沒落的呢？

在筆者看來，尼康的衰落主要是因為在157nm光源幹刻法與193nm光源溼刻法的技術之爭中的落敗。

據悉，在上個世紀90年代，時任臺積電研發副總的林本堅提出了「浸潤式光刻機技術」方案，利用現有成熟技術改造。

這一方案不僅能夠為半導體裝置製造商節省研發投入，同時也能減少晶片製造商的匯入成本。但當時的尼康拒絕採用，而ASML卻決定以小博大。

2004年，ASML與臺積電共同研發出全球第一臺浸潤式微影機，尼康也研發出乾式微影技術的157nm產品。

相較於尼康的157nm產品，ASML的浸潤式微影機具有成本低、縮短光波效果更好的特點。

因此，IBM、臺積電、英特爾等大客戶紛紛選擇ASML的光刻機，尼康的產品反而「無人問津」，潰敗由此開始。

此後，在EUV光刻機的研發中，尼康又被美國直接踢出「朋友圈」。

資料顯示，到了2009年，ASML在全球市場已經拿下70%的份額，而尼康則逐漸走向沒落。

目前，尼康所銷售的光刻機主要定位中低端，無論技術還是銷量都難以與ASML比肩。

隨著半導體工業追求的製程越來越先進，尖端光刻機的重要性愈發凸顯。在這樣的背景下，尼康在光刻機領域基本沒有翻身的希望。

文/有魚稽核/子揚校正/知秋