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爆發!國產EDA、光刻機傳來好訊息,國內半導體被外媒說中了?

2021-06-12 16:34:29

國內半導體市場,迎來了爆發嗎?

此前有外媒爆料稱過去一年國內成了全球最大的半導體裝置市場,當時有媒體指出,這個資料是值得思考的。在年初的時候美《福布斯》也曾專門發表一篇文章,其中指出半導體就是未來科技的新石油,而中國正在開採一個個油田。不管其實麻痺還是吹捧我們吧,自研的路,已經開始走了!

中科院去年表示,我們在半導體關鍵性方面還有35項之多的技術有待攻克;尹志堯前一段時間接受楊瀾採訪,其中提到我們在裝置方面跟先進水平還差兩三代,追趕需要十年之久!就以光刻機為例,現在上海微電子能夠提供的是90nm,而28nm製程的光刻機能否在今年交付,一直是個謎,畢竟一臺先進光刻機所涉及到的供應商、零部件多到難以想象,荷蘭運輸一臺先進光刻機就動用了40輛集裝箱,其難度可想而知。但也是在這種基礎比較薄弱的情況下,國內越戰越勇,缺什麼,我們就造什麼!

光刻機、EDA、作業系統,爆發了!

這幾個月,可以說國內半導體似乎迎來了爆發期,為什麼這麼說呢,因為國內在很多地方,開始陸陸續續發力了!

晶片的誕生所需要的裝置所經過的供應商不計其數,但是在誕生之初還需要設計出來,這裡就需要用到了EDA軟體,但是此前這方面都被是外部所壟斷,而在叫停更新之後,就算是海思有再好的設計能力,沒有它,一些都是紙上談兵,這是晶片之初!

在相應工信部的號召之下,國內11家企業組建了「軟體聯盟」,通過分工合作,合力共創的方式來攻克該方面的技術壁壘,國產EDA軟體可以說已經在路上了!

而鴻蒙系統更是在本月初被推出來,此前要麼是安卓要麼是蘋果,但是當下再說作業系統,那麼將會再提到一個,這個就是我們的鴻蒙系統,就在6月12日還有網友爆料稱鴻蒙os使用者突破了1000萬,餘承東更是切蛋糕慶祝,不可謂不快!

那麼眾多網友關注的光刻機呢?中科院在近幾天公佈一個比較振奮人心的訊息,那就是攻克了一項光刻機關鍵性技術,快速光學鄰近效應修正技術,並且通過模擬效果發現,其修正效率更高,而這是90nm及其以下節點積體電路製造的關鍵技術之一!

其實在此之前,清華大學也實驗室研發一種新的光源,其效能更強,更適合被光刻機採用!

國內半導體,外媒說對了?

比爾蓋茨去年接受採訪的時候就表示,限制晶片出口於華對美沒有什麼好處,甚至會加速中國芯的崛起。

而ASML總裁在某線上會議上呼籲美應該重新考慮對華的出口限制,因為中國正在投資建設,力求實現自主化,倘若一旦實現,那麼非中國企業或將失去這樣巨大的市場!

SIA 在一份最新報告中指出,未來十年,國內或將成了全球晶片工廠。全球主要晶圓線有300多條,但是6成以上在中國,且都是覆蓋了主要尺寸,這或許就是製造中心轉移的開始吧!

國內半導體正在高速發展,但所面臨的問題也依然嚴峻,這條路,才剛剛開始!


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