國內不缺光刻機，「自研」就能解決晶片缺口？這誤會有點大！

2021-06-16 12:32:21

有了光刻機和「自研」，國內就能造芯了？

數十萬零部件，上千家供應商，才能將一臺先進光刻機組建好！

梁孟鬆在去年的那份辭職信中提到現在就差EUV光刻機到位，就可以展開7nm、5nm的工作，再加上此前關於特不靠譜的限制以及在18年中芯未能獲得EUV光刻機等等原因吧，總之，國內始終覺得，就是EUV光刻機限制了國內造芯的崛起，但凡有一臺先進裝置，也不至於發展這麼慢，於是當看到清華、中科院公佈關於在光刻機方面的研究時，開心地以為我們可以實現彎道超車！

有資料顯示，過去一年國內在半導體方面的投資超過1400億元，是史上最多的一年，而且各地項目拔地而起，一片造芯熱浪一波接一波，但這就是尷尬的地方，「自研」，真的就能解決晶片缺口嗎？這誤會是不是有點大？

國內，不缺光刻機！

造芯確實離不開光刻機，它和蝕刻機佔比分別是30%、25%，可能是因為佔比以及難研發等原因吧，很多人覺得光刻機就是造芯的關鍵，可以這麼說，是關鍵，是重要的一環，但不是全部！

因為除了光刻，還有刻蝕、沉積、離子注入、清洗、氧化、檢測，除了光刻機，剩下的離開哪一個都不行！（其中光刻、蝕刻、沉積佔75%的比重）！

那麼我們真的很缺光刻機嗎？

首先來說，老美所限制的是先進光刻機，也就是EUV極紫外線光刻機，可以造出7nm及其以下節點的工藝，比如臺積電、三星都是採用EUV光刻機來完成5nm晶片的製造！

其次DUV光刻機是可以正常供應國內的，去年ASML就單純的銷售DUV光刻機還在華營收180億之多，這也許就是為啥ASML那麼迫切地想供貨於華吧，畢竟一臺EUV光刻機售價更是高得離譜。

再者，在DUV光刻機領域不單單是ASML一家，日本還有兩家，且國內的上海微電子也能夠提供到90nm的光刻機，所以國內並不缺光刻機，非要嚴謹地說就是不缺DUV光刻機。這裡多說一句，可能會有人說我們就不研發先進工藝嗎？就在成熟工藝「打盹」？要知道現在市場83%的晶片需求都是成熟工藝，我們能把成熟工藝給「成熟」了也是很大的進步！

那麼國內所缺的是什麼？光刻機被荷蘭限制，蝕刻機國內中微半導體可以做到5nm，也就是說，我們需要團結外部（如果能自我突破更好，但難度可想而知），將剩下的幾個環節，給打通，這才是重點！

關於「自研」，誤會有點大！

開頭就提到在過去一年半導體方面的投資高達千億，但是如果從資料上來看，其中多半的投資是用在了設計晶片方面，而關於製造方面，不多。

國內的一些網際網路、手機廠家、車廠等等企業所謂的「自研」晶片，多數是在晶片設計環節下功夫，但是我們不缺設計（華為海思設計水平，世界領先），我們所缺的是製造，是產能，是中芯國際這樣的企業。所以設計多了，不僅不能夠很好地解決缺芯問題，還可能導致缺芯問題嚴重，為啥？因為設計好了就拿去製造，晶圓廠流片訂單增多，會加大代工廠的壓力。

那麼為啥設計會投資多、增加得多呢？其實說到底就兩個原因，其一是設計的門檻相比於製造來說，偏低一點，比如好入手。其二設計相對來說見效快，回收快，商業本就如此，所以也是能夠理解的。

但是我們也要知道，沒有穩定的製造，再好的設計都是空中樓閣。知道自己缺什麼，再去造什麼，才是我們突破的關鍵！而這，或許也就能夠解決中芯為啥一年兩擴28nm晶片產能了吧！

國內不缺光刻機，「自研」就能解決晶片缺口？這誤會有點大！

熱門文章