好訊息不止光刻技術，國產刻蝕機迎來新突破，核心技術完全自研

2021-06-17 17:18:55

受中興、華為事件的刺痛下，更多的研發力量、資金、人才湧入中國晶片行業，國產晶片的前行腳步加快。

日前，我國便在光刻機領域傳來喜訊，中科院官網刊文表示，上海光機所在計算光刻技術領域——光學鄰近效應修正技術上，取得重要進展。

好訊息不止光刻機，國產刻蝕機也迎來新突破。

6月15日，中微半導體首臺8英寸甚高頻去耦合反應離子刻蝕裝置Primo AD-RIE 200順利付運客戶生產線。該裝置由中微半導體自主研發，可以進行8英寸晶圓的加工。

這顯示出我國在刻蝕機領域的又一重大進步。

同光刻機一樣，刻蝕機也是晶片加工過程中的關鍵裝置，也是我國最具優勢的半導體裝置。在諸多半導體裝置中，刻蝕機是我國替代佔比最高的裝置之一。

中微半導體、北方華創、屹唐半導體等都是我國領先的刻蝕機企業；其中，中微半導體表現最為強勢。

目前，中微半導體的工藝節點已經達到5nm，其刻蝕裝置也成功進入臺積電5nm生產線。由此可見，在技術實力上中微半導體已經達到全球領先水準。

中微半導體在刻蝕機領域的優異成績，成功打破了泛林半導體、應用材料與日本東京電子這三家企業壟斷全球刻蝕機市場的格局，填補了我國在這一領域的空白。

面對快速崛起的中微半導體，美國商務部在2015年解除了對中國等離子體刻蝕裝置的出口管制，讓美國企業能夠衝擊中微半導體的行業地位。

不過，顯然中微半導體並沒有因此退縮。

從2016年到2019年，中微半導體一直在加大研發投入。2019年，公司研發投入佔收入的比重高達28.3%，可以看出公司對研發的重視。

在高研發投入之下，中微半導體取得了諸多優異成績，公司客戶結構不斷豐富，進一步搶佔著全球刻蝕機市場。

如今，臺積電、中芯國際、海力士、格羅方德等全球晶片領先企業，都已經成為中微半導體刻蝕裝置的客戶。這無疑是對中微半導體實力的最大肯定。

雖然，當前我國晶片產業還有諸多不足，但是在中科院這樣的科研機構、中微半導體等半導體企業的共同努力下，中國晶片產業的國產替代率將進一步上升，最終實現國產晶片自主可控。

文/BU 審/球子