國產晶片按下快進鍵，全球新建29座晶片廠，中國獨佔16座

2021-06-26 16:12:27

因為在核心技術和裝置上沒有掌握主導權，所以中國半導體產業長期受制於海外。隨著有關方面對中國半導體產業封鎖力度的加大，國內進一步加快了攻關進度。

2020年下半年蔓延至今的缺芯潮，則為中國晶片產業帶來了絕佳的發展機遇，在市場需求得不到滿足的情況下，國產晶片加速擴充產能，按下了快進鍵。

6月25日多方媒體訊息，根據國際半導體產業協會公佈的全球晶圓廠預測報告顯示，在未來兩年內，全球將新建29座晶圓廠。

從國別上來看，中國大陸以及中國臺灣在晶片廠建設數量上領先於其他國家，獨佔16座。美國只有6座，歐洲只有3座，日韓分別有兩座。

公開資料表明，這29座晶片廠建成後，全球晶圓月產能會增長至260萬片，能夠起到明顯緩解晶片荒的作用。

而擁有半數以上晶片廠的中國，則會為全球晶片荒問題的解決貢獻最大力量。與此同時，這也有助於中國在晶片方面實現進口替代。

據筆者瞭解，包括中芯國際、長江儲存以及合肥長鑫等在內的中國企業，已經制定了相關擴產計劃。

但產能並非衡量中國晶片是否崛起的唯一指標。就目前的形勢來看，筆者認為，在提升產能的同時，國內半導體裝置以及材料的國產化同樣重要。

晶片產能只能證明中國企業佔據了多少市場，可一旦海外在核心裝置或材料上實施出口限制，那麼中國企業手中的市場將瞬間失去價值。

被切斷晶片供應鏈的華為，就是眾多中國企業的前車之鑑。

也正因如此，華為才會在近年來加快對半導體上游產業鏈的佈局，投資各類相關裝置和技術研發企業，以推動半導體本土化產業鏈的構建。

不過，目前國內能夠成功研製出的高階裝置有限，像是EUV光刻機這樣的尖端裝置，絕非一個國家或地區能夠完成自主研發。

因此，在筆者看來，國內不用著急攻克5nm及以下高精度工藝。一方面是受裝置限制，全球唯一能夠量產EUV光刻機的阿斯麥被禁止向中國出口EUV光刻裝置；

另一方面則是，高精度工藝的研發週期太長，投入與收益不成正比。

所以，如果能夠構建起一條絕對成熟的、100%國產化的28nm及以上成熟工藝產業鏈，就已經算是很大的突破。

文/諦林審/球子