打破國外壟斷，繼光刻機後又一半導體裝置獲得驗證，中國芯加速了

2021-08-31 03:00:55

半導體市場不管是產線還是裝置，都迎來了改變！

美雖然產能逐漸下降，但是其技術和裝置還是很牛的，如應用材料、Lam和 KLA等等企業的市場佔比都是巨大的。

這兩年美開始在晶片方面進行限制，但是意外的是國內對半導體裝置的購買力度也開始大了起來，不單單是應用材料、Lam和 KLA這樣的沒氣你在國內大賺特賺，就是ASML和日企也是如此。

當國內晶片訂單開始暴漲11倍之後需，也有人在問，國內半導體裝置又是如何呢？

不知道大家是否還記得前一段時間青島富士康半導體廠的事情，郭臺銘用了一年的時候打造一座晶圓廠，還引進了國內首臺封測光刻機，那麼關於國產半導體裝置的話題再一次被熱議，而最近國內確實好事不斷，這是國產半導體要崛起了嗎？

不只是國產光刻機裝置

一直以來大家都比較關心光刻機裝置，因為ASML的先進光刻機礙於老美的限制是暫時沒法出售的，中芯也是三年前就下單，到了現在都沒收到貨。

沒有先進的光刻機，即便是掌握了7nm、5nm技術也是徒勞。

去年此時，中科院就曾表示，或將光刻機納入任務清單。而今年也確實傳來在光刻機的某些關鍵性技術上獲得突破，並進行了組裝，包括清華大學還在實驗室中尋找到一種可以替代ASML所採用的光源。且近日也有媒體爆料稱國產28nm光刻機已經獲得驗收，當然這個訊息還未得到官方確認，暫不做深究。

在造芯過程中，除了光刻機還有很多半導體裝置是需要我們去攻克的，其中不少都是外部所長期壟斷。

就比較說蝕刻、沉積和檢測等等，國內基礎都是比較薄弱。

不過好訊息近期也是頻頻爆出。

在8月27日的時候萬業企業也公佈了今年上半年的財報，從中我們可以看到，其旗下的離子注入機已經進入國產12英寸晶圓廠，並獲得了驗收，表現特別好。

首臺國產低能離子注入機順利完成驗證，這是從0到1的突破，也是國產裝置的一個大大的進步。

離子注入機在製造過程中佔比約5%，研發難度並不比光刻機低多少，但是該領域長期以來都是被外部所壟斷，如美的應用材料、亞舍利合佔全球市場85%-90%，國內市場佔比幾乎為零，所以也就能夠明白首臺國產低能離子注入機順利完成驗證的意義是多麼的重大！

這是一次國產半導體裝置突破外部壟斷的首戰告捷！

值得一提的是，國內半導體市場是巨大的，不單單是對晶片需求大，對半導體裝置也是如此，但長久以來我們都是「造不如買」，這就導致了市場上很多環節的裝置都是以外部為主，如今卻不一樣，國內還是有很大的希望「砸」出屬於自己的市場和裝置。

中電科的拋光裝置、至純科技的溼法裝置（有一說7nm裝置或將明年交付）、上海精測的國內首臺12英寸獨立式光學線寬測量裝置等等都獲得了突破。

當下不管是全球還是國內，半導體產業大熱，不少企業也因此開始加速前行，對於本土半導體裝置而言這是一個大好機會，是一個成長的機會，只期待未來可期了！

加油，中國芯和半導體裝置！