即將試產4nm晶片，三星或許沒想到，臺積電的動作會如此快

2021-06-19 17:18:59

日前，臺積電傳來好訊息，4nm晶片即將試產。知名供應鏈媒體DigiTimes援引訊息人士訊息，臺積電先進工藝全面提速，將在2021年第三季度將N4（4nm）轉移到風險試產階段。

這則訊息傳來，或許三星也沒想到，臺積電的動作如此快。據瞭解，前不久臺積電才更新了製程工藝路線圖，其中4nm工藝，預計將在2021年年底「風險生產」。

如今，臺積電將4nm晶片的風險試產提到三季度，難免令三星措手不及，畢竟直到現在，依然沒有傳來三星4nm晶片試產的訊息。

但目前，臺積電提前試產4nm，與三星進一步拉開差距，三星彎道超車的希望更渺茫。

目前，臺積電與三星是全球排名第一、第二的晶圓代工廠，雙方的先進製程之爭由來已久，但每一次臺積電都能做到領先三星，在4nm晶片上顯然也不例外。

事實上，即便臺積電沒有提前試產4nm晶片，三星想要在2030年之前趕超臺積電，可能性也不大。

眾所周知，光刻機是晶片製造過程中必不可少的裝置，而在光刻機裝置中，EUV光刻機又是重中之重。晶圓代工廠想要製造7nm以下節點先進工藝晶片，就必須依靠EUV光刻機。

同時，對晶圓代工廠來說，擁有更多EUV光刻機，就意味著增加了更多晶圓數量，產能必然會得到提升。

但在擁有的EUV光刻機數量上，三星與臺積電卻有很大的差距。

此前曾有外媒爆料，阿斯麥目前已生產的極紫外光刻機，有70%賣給了臺積電，留給其他廠商的只有30%，三星自然也在其他廠商之中。

為了獲得更多EUV光刻機，三星做出了很多努力，高管頻頻前往ASML總部洽談。

但需要注意的是，目前全球範圍內只有ASML能夠生產EUV光刻機，而ASML的產能有限，完全趕不上半導體廠家的訂單數量，三星擁有的EUV光刻機數量，想要短時間內趕上臺積電基本不可能。

而除了光刻機數量有較大差距外，三星在EUV光刻機的使用熟練度上，也遠不及臺積電。

在光刻機數量、使用熟練度都落後的情況下，照此發展，三星與臺積電的差距將會越來越大。在筆者看來，臺積電之所以每次都能在先進製程晶片的量產上，快三星一步，或許也有EUV光刻機方面的原因。

那麼，你認為三星能否在2030年實現彎道超車呢？

文/有魚