英特爾稱用光子學技術解決了3nm製程晶片限制，但與華為技術相似

2021-05-18 22:31:24

前言

最近幾年裡，世界的發展速度又步入了新的層面。科技發展的迅速也帶動了各行各業的發展，尤其是晶片技術領域更是成為了各個國家最為重視的內容。

晶片技術的發展和進步在一定程度上直接影響了有關科技領域的未來走向。因此高精尖的晶片研發和製造一直都是各個國家十分重視和渴求突破的技術。正如我們現在所瞭解到的，在過去數十年的發展過程中，晶片的製造工藝和效能都有了巨大的進步。

根據摩爾定律，晶片的效能每過12個月就會翻一倍，並且成本下降百分之五十。並且在過去的四十年中，摩爾定律一直都是十分穩定的「預言」著計算機和晶片的發展。如今晶片的整合度已經達到了5nm級別，並且再次提升的目標就是3nm，並且在整合度提高的同時，晶片的效能也有了極大的提高，功耗也隨之降低。可以說現如今全球晶片市場的進步跨度十分之大。

不過摩爾定律的極限也隨之到來，因為現如今3nm晶片的研發已經成為努力的方向，在未來繼續向2nm、1nm的整合密度下探的過程中，很容易就出現摩爾定律失效的問題。而一旦摩爾定律失效，那麼會直接導致現有的晶片架構體系失靈。

因此摩爾定律一旦失效對於整個晶片製造行業都是巨大的難題，甚至可以毫不誇張的說，當下3nm製程的晶片已經是如今全球晶片行業發展的天花板了。

而晶片技術的發展不可能一直受限於摩爾定律，為了能夠突破極限，近幾年來很多知名的晶片製造企業和科研機構都在不停的嘗試，企圖通過改變材料或是製造工藝等做法來拜託摩爾定律限制，而現如今主流的晶片製程方向就是將原本的矽基晶片換位碳基晶片。

而作為晶片大廠的英特爾也在4月19日給予了其全新突破3nm製程晶片限制的解決方案，並且在此次方案中，英特爾的技術上出現了新的突破。據悉英特爾的此次技術突破給予矽晶片的光子學技術，與常規積體電路中利用金屬傳導電訊號不同，利用光子學技術中光波傳到資料來使晶片進行工作可以無視摩爾定律對晶片製程工藝的限制，並且利用光波可以有效的提高晶片效能，並且降低晶片的功耗。

而這一訊息一經傳出，對於整個晶片製造領域是一次巨大的撼動，如果英特爾能夠利用矽光子學制造出可以用以商業用途的晶片的話，那麼英特爾將能夠打破限制，率先突破瓶頸，並且一躍成為全球最頂級的晶片製造企業。

但是英特爾的此次矽光子學技術的介紹中，我們不難發現其原理很像3月初華為被曝光的新型晶片發展技術，而在國內我們稱華為的晶片技術為「光晶片技術」。但是其原理和英特爾的晶片技術類似。

所謂光晶片技術簡而言之就是通過光子替代現有積體電路中的電子作為晶片電路訊號傳輸的工具。同時該技術的理想預期也是同樣可以突破摩爾定律的極限。並且無論是效能還是功耗上，都具有更大優勢和市場競爭力。

其實華為和英特爾的技術原理和預期工藝相類似，甚至在理論上的研究方向都是如出一轍，都是利用光子技術代替現有的電子來進行資料的傳輸和處理。只不過現如今英特爾的矽光子技術還停留在實驗室以及理論層面的探索中。

但是華為卻先動一步，在2020年12月華為就和中建八局達成合作並建成了國內首個晶片廠房，目前已投入使用了。並且該工廠的主要用途就是研發光晶片技術，而這樣的動態也表明，華為的光晶片技術研發現如今已經開始落地嘗試了，所以現如今華為次啊是光晶片技術的發展第一人。

晶片技術發展於國於民都有著十分重要的意義，同時也關係到我國科技發展走向的重要內容，我國的科技大廠紛紛投入對晶片的研發，並且在各個方向上都有著自己的研究成果。中芯國際現如今注重於發展晶片代工工藝，中科院的晶片研發部門正苦苦鑽研與EUV光刻機和晶片的指令構架，華為更重視晶片技術的研發與突破。

結語

從各個方面，我國晶片發展框架已經走向完善化，相信在不遠的未來，我國在晶片領域將會獲得巨大的提升，並且形成自己的製造和研發體系。

英特爾稱用光子學技術解決了3nm製程晶片限制，但與華為技術相似

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